O sistema de limpeza com plasma de oxigênio possibilita a remoção de resíduos orgânicos da superfície das amostras.  Ele é geralmente usado para remover resíduos de fotorresiste antes de fazer a metalização dos contatos elétricos.  Ele é da marca Plasmatic Systems, modelo Plasma Preen, e possibilita a limpeza de um substrato de até 6".