Oportunidade de Pós-Doutorado em Materias Funcionais no CDMF
20 de outubro de 2016
Agência FAPESP – O Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais (CDMF), um dos Centros de Pesquisa, Inovação e Difusão (CEPIDs) apoiados pela FAPESP, oferece duas oportunidades de Bolsas de Pós-Doutorado em Modelagem Atomística de Materiais e Materiais Nanoestruturados. O prazo de inscrição encerra em 30 de outubro
A bolsa relativa à Modelagem Atomística de Materiais está vinculada a um projeto de pesquisa que visa, a partir de métodos computacionais baseados na teoria do funcional da densidade e simulações de dinâmica molecular ab initio, investigar os aspectos estruturais e termodinâmicos da nucleação e crescimento de filamentos de Ag a partir de cristais de Ag4V2O4 quando irradiados com feixes de elétrons, implementado no Instituto de Química da Universidade Estadual de Campinas (Unicamp).
O objetivo do projeto é fornecer um aporte em nível atomístico na interpretação dos resultados experimentais obtidos pelo CDMF.
Os candidatos devem ter título de doutor e experiência comprovada no uso de métodos atomísticos computacionais.
Os interessados deverão enviar curriculum vitae, apresentando formação acadêmica, publicações e informações que comprovem a sua experiência científica na área, além de nomes e e-mail de duas pessoas como referência, para o pesquisador principal do projeto, Miguel San Miguel, no endereço smiguel@iqm.unicamp.br.
A oportunidade está publicada em www.fapesp.br/oportunidades/1277/.
A segunda bolsa está relacionada a projeto de pesquisa sobre Materiais Nanoestruturados à base de grafeno e óxidos de metais de transição para serem aplicados como sensores de gases desenvolvidos pelo Grupo Crescimento de Cristais e Materiais Cerâmicos do Instituto de Física da Universidade de São Paulo (USP) em São Carlos O candidato deverá ter doutorado na área de Física, Química ou Ciência dos Materiais e experiência de pesquisa nas áreas de síntese e caracterização de materiais nanoestruturados na forma de pó e filmes finos.
É desejável que tenha experiência com as técnicas de XPS e deposição de filmes finos por técnicas e que tenha concluído o doutorado há não mais que quatro anos. O candidato deve, ainda, demonstrar capacidade de gerar produção científica, tendo publicado pelo menos dois artigos em periódicos científicos com revisão por pares.
Os interessados deverão enviar carta apresentando interesse, currículo vitae resumido, apresentando sua formação acadêmica, publicações e informações que comprovem sua experiência científica na área, projeto de pesquisa de até 10 páginas e nomes e e-mail de duas pessoas como referência para Valmor Roberto Mastelaro, pesquisador principal do projeto, no endereçovalmor@ifsc.usp.br.
A oportunidade está publicada em www.fapesp.br/oportunidades/1293/.
Os selecionados receberão bolsa de Pós-Doutorado da FAPESP no valor de R$ 6.819,30 mensais e Reserva Técnica. A Reserva Técnica da bolsa de PD equivale a 15% do valor anual da bolsa e tem o objetivo de atender a despesas imprevistas e diretamente relacionadas à atividade de pesquisa.
Caso os bolsistas residam em domicílios diferentes e precisem se mudar para a cidade onde se localiza a instituição-sede da pesquisa, poderão ter direito a um Auxílio-Instalação, composto por uma mensalidade adicional e despesas de transporte, quando houver deslocamento por distância superior a 350 quilômetros. Esse benefício precisa ser aprovado pela FAPESP.
Mais informações sobre a bolsa de Pós-Doutorado da FAPESP estão disponíveis em fapesp.br/bolsas/pd.
Outras vagas de bolsas de Pós-Doutorado, em diversas áreas do conhecimento, estão no site FAPESP-Oportunidades.
Fonte da notícia: Agência FAPESP
